Auto Mask Aligner

基本規格

• Exposure light source: 3.5KW、5KW、8KW、10KW
• Substrate Size: 4.5"~12" 方形基板
• Uniformity: ≦ 5%
• Alignment Accuracy: ± 5um
• Throughput: 8~10pnl/min

應用範圍

• 半導體(Semiconductor)、微機電(MEMS)
• 被動元件(Passive Component)、觸控面板(Touch Panel)
• 顯示器(Display Panel)、發光二極體(LED)