IoN Tumbler Plasma System
離子不倒翁等離子系統
IoN Tumbler 等離子系統是我們在真空等離子技術方面的最新進展之一。
由於其多功能性和對環境的低影響，氣體等離子體正迅速成為生命科學、電子和工業領域材料表面改性的首選技術。
例如，醫療診斷的小型化趨勢需要精確清潔和選擇性化學功能化。
等離子體去除有機污染物的效率比濕化學處理高幾個數量級，並且可以在納米尺度上對錶面進行化學功能化。
因此，血漿正在取代不再實用或經濟的舊類型治療。
IoN Tumbler 旨在滿足客戶不斷變化的需求，強調多功能性和對錶面處理需求的控制。
其先進的功能提供最先進的過程控制、故障安全系統警報和數據捕獲軟件。
這使系統能夠滿足生命科學行業中嚴格的質量控製程序。
IoN Tumbler 在緊湊、完全集成的封裝中使用射頻 (RF) 生成的等離子體。
新型 IoN Tumbler 的另一個設計特點是能夠快速輕鬆地在不同的腔室尺寸和部件籃配置之間切換。
功能包括：
- 靈活的快速更換電極和腔室選項
- 即插即用自安裝
- 板載氣體發生器包選項
- 可實現最低擁有成本的節能控制功能
- 可配置的腔室，可適應小型複雜 3 維零件或大批量大型零件加工的各種電極配置
- 帶有基於 Windows® 的系統的 PLC 或工業電腦
- 圖形用戶界面 (GUI) 軟體符合 CFR Title 21 Part 11 和 Semi E95-1101
- 用於單獨過程開發、操作員和維護編碼和控制的使用者控制
- 可配置的過程公差控制允許精確的批次重複性
- 通過乙太網進行遠程統計過程控制監控
- 板載診斷功能和報警記錄
- 配方編輯器提供快速且通用的步進控制功能
- 如果選擇了 PC 選項，則搭載液晶顯示器 (LCD) 觸摸面板和鍵盤
- 可以為粉末和零件配置滾筒籃
Technical Data
PROCESS CHAMBER
Materials
Material Aluminum (A)
CHAMBER VOLUME & INNER DIMENSIONS
ION 100T
100 liters, 14.76” x 14.76” x 28” L
(375 x 375 x 711.20 mm L)
ION 140T
140 liters, 14.76” x 14.76” x 38” L
(375 x 375 x 965 mm L)
ION 190T
190 liters, 20” x 20” x 35” L
(508 x 508 x 863.60 mm L)
PROCESS GAS
Mass Flow Control
up to 6 gasses Process Pressure
Approx. 120-2000 mTorr
Evacuation Time ~1 minute (pump dependent)
RF GENERATOR
Air cooled
FREQUENCY
13.56 MHz
Technical Data
POWER REQUIREMENTS
ELECTRICITY
208-240 VAC, 3 phase 30A
50/60 Hz 5-wire (standard)
415-480 VAC, 3 phase 15A
50/60 (optional)
PROCESS GAS
Input pressure 1-2 bar / 30 PSI
Purge Gas Input pressure 1-2 bar / 30 PSI
Compressed Air Input pressure 5 bar / 75 PSI
CHASSIS
Self contained footprint featuring all power and gas
connections
Roll around chassis with leveling feet
SAFETY CERTIFICATION STANDARDS
- CE certified
- EN 60204
- EN 61326
POWER OUTPUT
600 or 1000 watts (standard)
0-1250 watts air cooled (optional)
Technical Data
DIMENSIONS
STANDARD
635 x 1120 x 1473 mm
29” x 78” x 58” (IoN 140)
135 liters – A
WEIGHT
350.45 kg / 771 lbs. (standard)
OPTIONS
- 1% pressure monitor
- Recirculating liquid chiller
- Pressure controller
- Light tower
- Barcode reader
- Spectrographic endpoint detection
- MFC upgrade for corrosive gasses
- Printer
- Monomer processing kit
- H2 generator unit
- Wall mount package
- Vacuum pumps (rotary vane, dry, scroll and blower package)
- Vapor phase MFC