No Photo Mask laser direct writing
Coaters
Exposure (Photolithography)
No Photo Mask laser direct writing
Photo Mask
Developing
Etching
Spin Wash
Vaccum Drier (VCD)
Nikon Stepper
Ultratech stepper
Instruments and Laboratory Supplies Index
Calibration Measurement - Relocation Services
Used equipment
UV Curing Machine
Yellow clean room rented
無光罩雷射直寫曝光機可用於半導體主被動元件、光電顯示器、背光模組上，也可用於其他太陽能電池、LED等產品的製程。
無光罩雷射直寫曝光機是集機械、電子光學、電氣、真空、計算機技術等於一體的精密半導體加工設備。利用聚焦電子束對有機聚合物進行曝光，受電子束輻照區域的光刻膠，化學性質會產生變化，形成良溶或非良溶區域，由此在抗蝕劑上形成精細圖形。
應用範圍：
1) 觸控面板、2) 印刷電路板、3) 半導體、4) 光罩製作、5) R&D
