光罩
光阻涂布
曝光(光刻)
无光罩雷射直写曝光机
光罩
显影
蚀刻机
清洗
真空干燥机 (VCD)
Nikon Stepper 步进曝光机
Ultratech stepper 步进曝光机
仪器及实验耗材
校正量测-移机服务
中古设备
紫外线固化机
黄光无尘室租用
光罩制作精密首选-科毅
科毅为光罩制作精密首选,Total Solution(全制程服务)提供您全方位的光罩设计制作方案。本公司除提供光罩对准曝光机等黄光设备以外,也提供制程材料,尤其光罩的制作是其中重要的一环,光罩的尺寸可以从4"、5"、6"一直到24" × 32",其中并可提供4"、5"、6"、7"等的复制子片的服务,各大LED、Discrete components、MEMS、Optoelectronics 等厂。
光罩简介
光罩为生产晶片的模具,让积体电路的设计图样能够转印至晶圆。现今像晶圆、半导体产业,都会运用到光罩。透过光罩作用,能够将半导体上的图形复制于晶圆上。其原理类似于冲洗照片时,利用底片将影像复制至相片上。一般来说,光罩透过描画、显影、蚀刻、去除光阻等严格的检验制程,最终出货到客户端。科毅多年来于光罩产业深耕,为了满足业界更高更精细的需求,我们也持续竭力于研发、培养更多人才,掌握更深厚专业的光罩制作技术。若您有光罩制作的需求,欢迎洽询科毅。