AG-MLL-CS500-C900

应用领域 :

• MEMS
• 掩模版制作
• IC器件
• 生物芯片
• 3D光刻
• 微传感器
• 微流體控件

主要功能及特征

• 器件无掩模直写光刻功能
• 光掩模版制作功能
• 3D结构曝光功能
• 自动对准功能
• 背部对准功能
• 用户自定义标记对准功能
• 可视化定点曝光功能
• 自动聚焦功能
• 快速、精细两种曝光方式
• 405nm ( 375nm 可選) LED光源
• 多種數據輸入格式( DXF/CIF/GDSI/Gerberi*選配/BMPTIFF)
• 基于Windows系统,用户界面简单,易于操作使用
• 不规则样片曝光
• 小批量,多品种