关于我们

专利名称:预先定位装置
申请国家:中华民国
获证号码:M439541

专利名称:曝光机之对准定位调整装置
申请国家:中华民国
获证号码:M439825

专利名称:双轨循环式曝光装置
申请国家:中华民国
获证号码:M473537

专利名称:具有转动式反射部之曝光装置
申请国家:中华民国
获证号码:M478177

专 利:

  • 双层板精密对位之标记及其影像处理设计与方法(台湾专利、金属中心)
  • 双轨循环式曝光装置 (台湾专利)
  • 具有转动式反射部之曝光装置(台湾专利)
  • 对准定位调整装置(台湾专利)
  • 预先定位装置(台湾专利)
 

关键技术:

  • 精密机台对准校准装置
  • 精密对位影像处理设计与方法