关于我们
专利名称:预先定位装置
申请国家:中华民国
获证号码:M439541
专利名称:曝光机之对准定位调整装置
申请国家:中华民国
获证号码:M439825
专利名称:双轨循环式曝光装置
申请国家:中华民国
获证号码:M473537
专利名称:具有转动式反射部之曝光装置
申请国家:中华民国
获证号码:M478177
专 利:
- 双层板精密对位之标记及其影像处理设计与方法(台湾专利、金属中心)
- 双轨循环式曝光装置 (台湾专利)
- 具有转动式反射部之曝光装置(台湾专利)
- 对准定位调整装置(台湾专利)
- 预先定位装置(台湾专利)
关键技术:
- 精密机台对准校准装置
- 精密对位影像处理设计与方法